據媒體(tǐ)報(bào)導，5月(yuè)13日(rì)韓國<•(guó)産業(yè)通(tōng)商資源部（The €♣'≤Ministry of Trade, Industry and Ener±'gy，MOTIE）對(duì)外(wài)宣布，全球光(gu< āng)刻機(jī)龍頭大(dà)廠(chǎng)阿斯麥（ASδ↓ML）計(jì)劃赴韓國(guó)打造E↓<≠UV 再制(zhì)造（remanufacturi&φ£ng）廠(chǎng)及培訓中心。
據介紹，ASML未來(lái)4年(nián)将在韓國•©(guó)投資2,400億韓元（2.1億美(měi)元）✔₽，于京畿道(dào)華城(chéng)市(shì)打造一(y"≥€ī)座EUV光(guāng)刻設備再制(zhì)造≥&廠(chǎng)以及一(yī)家(jiā)培訓中心。"✘§所謂再制(zhì)造，是(shì)指通(tōng)過必要(yào¥₽')的(de)拆卸、檢修和(hé)零部件(jiàn)更↔±換等，将廢舊(jiù)産品恢複如(rú)新的✘¥(de)過程。
想要(yào)打造先進制(zhì)程的(de)半導體(tǐ)生(↕βshēng)産線，一(yī)定要(yào)設法取β£®α得(de)關鍵半導體(tǐ)設備。應用(yòng©♦)材料、ASML、泛林(lín)半導體(tǐ)、東(dōnαg)京電(diàn)子(zǐ)是(shì✔↔÷)全球前四大(dà)半導體(tǐ)設備廠(chǎngδ←)商，總體(tǐ)的(de)市(shì)占率高(gāo)達60% ₹λ左右。問(wèn)題是(shì)，這(zhè)些(xiē)半™∞導體(tǐ)設備廠(chǎng)每年(nián)隻能(néng)生(sh₽ ēng)産一(yī)定數(shù)量的(de)機(jī) ♣ 台，交貨時(shí)間(jiān)也(yě>±)比較長(cháng)。
特别是(shì)對(duì)于7nm以下(xià)先進制(zhì≤δ)程所必須的(de)EUV光(guāng)刻機(jī)來(l₹"ái)說(shuō)，目前ASML是(shδ↕ì)全球唯一(yī)一(yī)家(jiā)能(néng)夠€∑←₹生(shēng)産EUV光(guāng)刻機÷ (jī)的(de)半導體(tǐ)設備供應商。但(dàn)是(sh÷>ì)目前ASML的(de)EUV光(guāng)刻♠↔±機(jī)産能(néng)十分(fēn)有(yǒu)限，一(y×ε÷&ī)年(nián)隻能(néng)生(shēng)産30台左右E"•εUV光(guāng)刻機(jī)。
據媒體(tǐ)報(bào)道(dào)稱，目前台積電(diàn)已取得(de)了(le)50台EU•¥↑↔V設備，而三星僅有(yǒu)10台。
此次ASML計(jì)劃在韓國(guó)新建的(de)EUV再制(zhì€₩↕)廠(chǎng)，主要(yào)用(yòng)途≈♣就(jiù)是(shì)為(wèi)韓國₩↕(guó)當地(dì)運行(xíng)的(de&'Ω∞)EUV光(guāng)刻機(jī)維護、升級提供助力。
據了(le)解，韓國(guó)MOTIE及京畿道(dào)政府将針對(♥↕duì)ASML的(de)授權、擴張當地(dìεγΩ)業(yè)務事(shì)宜提供協助。而上(shàng)述設施預計(jì)2•→↓025年(nián)底前落成，未來(lái)将在韓國(guó)聘用(₹λyòng)超過??300名專業(yè)人(rén)才。
另外(wài)值得(de)一(yī)提的(de)是(©¶shì)，報(bào)道(dào)還(hái)指出，目前美(mě←€>i)國(guó)半導體(tǐ)設備大(dà)廠ε®(chǎng)泛林(lín)半導體(tǐ)（Lam Rese✘arch Corp.）将擴大(dà)對(duì)韓國(guó)的¥≠(de)投資南(nán)。報(bào)道(dào)引述業(yè>Ω)界消息指出，泛林(lín)半導體(tǐ)已将韓≤♥國(guó)的(de)生(shēng)産目标提高(gāo)一(yī)倍，正'π→α在尋找合适的(de)地(dì)點建立新廠(chǎng)，以便擴充産能(nén>∑γ×g)。
